近日，德國斯圖加特大學(xué)的研究小組發(fā)表了一篇論文，證明了3D打印微米級光學(xué)器件的可能性，該項(xiàng)研究大大提升了3D打印光學(xué)器件的精密度和還原性，對于微型傳感器設(shè)備和通訊設(shè)備的推動(dòng)有著重要意義。

    據(jù)了解，該團(tuán)隊(duì)使用到的技術(shù)被稱為“飛秒激光直寫（femtosecond laser writing）”，3D打印出來的光學(xué)器件最小只有4.4微米，完美使用于直徑為125微米的光纖，這是一項(xiàng)極其重要的突破。據(jù)稱，這種3D打印微米級光學(xué)器件十分接近于數(shù)字模擬裝置。

     所謂的飛秒激光直寫技術(shù)就是：用脈沖激光器對一種光敏材料進(jìn)行局部硬化，可以輕易將這些硬化了的3D結(jié)構(gòu)從多余材料中分離。

     目前，研究人員創(chuàng)建了相位掩膜板（phase masks），實(shí)驗(yàn)證明完全可以用于光纖上。未來他們計(jì)劃憑借該技術(shù)制造更多類型的相位掩膜板，中國3D打印網(wǎng)也會(huì)對此保持關(guān)注。

圖源：3ders

(責(zé)任編輯：admin)

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